想要进入研究院的车间。
那复杂程度不亚于西天取经。
防护服得穿上。
然后风吹，将身上的尘埃都吹掉。
在经过紫外线照射等等环节。
从准备到进入，差不多要花上一个多小时。
没办法，光刻机对于室内清洁度要求实在是太高了。
光刻机说白了就是通过一系列的光源能量、形态约束，将光束投射到画有电路图的掩膜。
再经过光学补偿，将电路图成比例缩小投射到硅晶片，最后通过化学方法显影，得到刻在硅晶片上的电路图。
如此，光刻机在工作中最重要的当然是光了。
光在哪里传播呢？自然是空气。
这也就是为什么光刻机的工作环境要求非常高的洁净度。
哪怕是一点灰尘，都能将生产出来的芯片直接报废。
现在91年，光刻机的精密度还没有那